大家好!
我目前在建模,在清洁的盖玻片上加脂质体模拟细胞膜的流动性。这要求玻璃非常干净以便保持脂质体的流动性,和后期共聚焦检测。我在美国做过一段时间,是用cyantek公司的nano-strip溶液清洗。配方是H2SO4 90%+H2SO5 5%+H2O2<1%+H2O5%.
我现在用98% H2SO4 + 30% H2O2 3:1(v/v)配的溶液浸泡过夜,发现泡酸后反而有更多的渣渣在盖玻片上。(我先用无水乙醇和Di-H2O清洗,然后泡酸。)
问题是:1. nanostrip的配方是如何配制呢?H2SO5是在H2SO4+H2O2过程中产生的吗还是需要自己加?类似的液体国内有吗?
2. 泡酸后出现的杂质是如何出现的呢?我自己配的酸液会腐蚀玻璃染色缸,溶解出杂质吗?
3. 这种泡酸一般作用是什么呢?单纯清洗?去盖玻片中的离子?如果是单纯去离子的话,用稀盐酸泡几分钟岂不是也可以?
希望化学专业的前辈帮忙。非常感谢。