磁控溅射镀膜设备:保证镀膜层的质量

　磁控溅射靶是在传统的圆柱靶上进行改进，通过增设磁芯驱动组件使摆动磁芯在工作过程中具有一定的摆动角度，使磁控溅射靶产生变化的磁场，以配合工件的曲面度，从而使工件表面镀膜均匀，有效提高产品质量。
磁控溅射镀膜设备，可以保证所镀膜层的质量，延长真空镀膜设备的使用寿命，稳定膜层质量也是免除不必要的不良品，节省返工时间，降低生产成本。

磁控溅射镀膜机其工作原理是在真空状态下，使用弧光放电和辉光放电的工作原理。在金属和非金属的工件表面上镀制金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等。亦可镀防腐蚀膜（如AL,Cr不锈钢及TiN等）和耐磨膜，膜层与基底结合牢固，利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。适合于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业，具有很好的发展前景。

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